Intel уточнила плани третього етапу розширення 10-нм фабрики D1X в Орегоні

От: inthedark

Intel оприлюднила перші подробиці своїх планів з розширення фабрики в штаті Орегон. Як з’ясувалося, компанія має намір перейти до третьої фази розвитку заводу D1X, причому за масштабами вона буде схожа з двома вже реалізованими етапами. Отже, як і обидва попередніх будівлі, нове повинно отримати площа 102 тисячі квадратних метрів.

Будівництво нових виробничих потужностей в Орегоні почнеться в цьому році. Intel планує виконати цей масштабний проект протягом 18 місяців. Потім ще кілька місяців піде на установку обладнання. В цілому інвестиції оцінюються в кілька мільярдів доларів.

Дотримуючись правил підготовки до будівництва, компанія повідомила проживають недалеко від кампуса Ronler Acres п’ятдесят жителів про свій намір побудувати третю фазу заводу D1X. Крім того, Intel доведеться звести нове технологічне будівлю з аварійними генераторами і інженерними мережами. Процесорний гігант повинен розкрити ще ряд подробиць про свою майбутню фабриці D1X Phase 3, включаючи фактичні виробничі потужності і технології, які будуть використовуватися.

Сьогодні у Intel є два заводи, в Ізраїлі і Орегоні, готові виробляти чіпи з використанням власного 10-нм технологічного процесу. Але ще невідомо, скільки додаткових 10-нм потужностей знадобиться компанії, з огляду на нинішній дефіцит процесорів.

Про плани розширення своїх виробничих потужностей в Орегоні, Ірландії та Ізраїлі Intel оголосила в кінці 2018 року. Рік тому вона заявила, що побудує Fab 42 в штаті Арізона для випуску чіпів з використанням 7-нм техпроцесу, заснованого на методах глибокої (DUV) і крайньої (EUV) ультрафіолетової літографії. Також в січні поточного року стало відомо, що Intel має намір створити ще один великий завод в Ізраїлі.

для паспорта обложка

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Вернуться к Верх